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半导体集成电路是依靠所谓的平面工艺一层一层制备起来的。对于逻辑器件，简单地说，首先是在 Si 衬底上划分制备晶体管的区域，然后是离子注入实现 N型和 P 型区域，其次是做栅极，随后又是离子注入，完成每一个晶体管的源极和漏极。这部分工艺流程是为了在 Si 衬底上实现 N 型和 P 型场效应晶体管，又被称为前道工艺。

（A）正确

（B）错误